KIRJELDUS
HOLIKA HOLIKA Soda Tok Tok Clean Pore Deep O2 Bubble Mask on spetsiaalselt rasusele ja kombineeritud nahale loodud näomask, mis põhineb söögisoodal, söögisoodal ja teepuuõlil. See mask kõrvaldab rasvast läiget, kuivatab põletikku, puhastab poorid sügavuti mustusest, vähendab musti laike ja ennetab uute ilmumist.
Kasutamine: Vajutage pumpa 2-3 korda, kuni toode ilmub, masseerige seda kuivale, töötlemata nahale, masseerige 2-3 minutit, seejärel loputage sooja veega.
HOLIKA HOLIKA Soda Tok Tok Clean Pore Deep O2 Bubble Mask on ideaalne probleemse, rasvase ja kombineeritud naha jaoks ning pakub detoksifitseerivat, rahustavat, niisutavat ja koorivat toimet.
ARVUSTUSED
OMADUSED
Ražotājs: Holika Holika
Apjoms: 100 ml
Ādas tips:
Izcelsmes valsts: Dienvidkoreja
Apjoms: 100 ml
Ādas tips:
- Problemātiskai ādai
- Kombinētai ādai
- Taukainai ādai
Izcelsmes valsts: Dienvidkoreja
Sastavs:
Water, Ammonium Lauryl Sulfate, Glycerin, Ethyl Perfluoroisobutyl Ether, Ethyl Perfluorobutyl Ether, Acrylates Copolymer, Isononyl Isononanoate, Ethylhexyl Isononanoate, PEG-7 Glyceryl Cocoate, Polyhydroxystearic Acid, Arginine Cocoate, Mineral Water, Butylene Glycol, Sodium Cocamidopropyl PG-Dimonium Chloride Phosphate, Xanthan Gum, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Extract, Actinidia Chinensis (Kiwi) Fruit Extract, Ethylhexylglycerin, Sodium Bicarbonate, Disodium EDTA, Phenoxyethanol, Fragrance, CI 42090
Water, Ammonium Lauryl Sulfate, Glycerin, Ethyl Perfluoroisobutyl Ether, Ethyl Perfluorobutyl Ether, Acrylates Copolymer, Isononyl Isononanoate, Ethylhexyl Isononanoate, PEG-7 Glyceryl Cocoate, Polyhydroxystearic Acid, Arginine Cocoate, Mineral Water, Butylene Glycol, Sodium Cocamidopropyl PG-Dimonium Chloride Phosphate, Xanthan Gum, Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Extract, Actinidia Chinensis (Kiwi) Fruit Extract, Ethylhexylglycerin, Sodium Bicarbonate, Disodium EDTA, Phenoxyethanol, Fragrance, CI 42090